แผงควบคุมก๊าซพิเศษ: หัวใจสำคัญของการควบคุมแรงดันและการควบคุมความปลอดภัย

1. แผงควบคุมแบบใช้มือ

แผงนี้ประกอบด้วยวาล์วบอลแบบใช้มือ วาล์วปรับแรงดัน และไม้แสดงแรงดัน ผู้ปฏิบัติงานปรับแรงดันขาออกและควบคุมการไหลของก๊าซด้วยตนเอง โครงสร้างที่เรียบง่ายทำให้ใช้งานและบำรุงรักษาง่าย มีวงจรควบคุมแบบหนึ่งหรือสองขั้นตอนให้เลือกตามความต้องการด้านความแม่นยำของแรงดัน

การใช้งาน: สายการผลิตในห้องปฏิบัติการ สายการผลิตขนาดเล็กถึงกลาง และสถานีเปลี่ยนก๊าซสำรองที่มีเจ้าหน้าที่ประจำสถานที่

ก๊าซที่ใช้ได้: ไนโตรเจน (N₂) อาร์กอน (Ar) ฮีเลียม (He) คาร์บอนไดออกไซด์ (CO₂) และก๊าซอื่นๆ ที่ไม่ทำปฏิกิริยาหรือไม่กัดกร่อน

2. แผงตรวจสอบแรงดันจากระยะไกล

พัฒนาขึ้นจากแผงพื้นฐาน โดยเพิ่มตัวแปลงสัญญาณแรงดันที่เปลี่ยนสัญญาณแรงดันขาเข้า/ขาออกให้เป็นสัญญาณไฟฟ้ามาตรฐานแบบ 4–20 mA เพื่อการตรวจสอบจากระยะไกลผ่านระบบควบคุมกลาง ยังคงมีมาตรวัดและวาล์วแบบปรับด้วยมือไว้สำหรับการดำเนินงานในสถานที่ รองรับการแจ้งเตือนแบบเรียลไทม์และการบันทึกข้อมูล

การใช้งาน: สถานีจ่ายก๊าซแบบไม่มีคนดูแล ห้องเก็บก๊าซพิเศษที่ตรวจสอบจากระยะไกล และสายการผลิตแบบต่อเนื่องที่มีข้อกำหนดด้านความเสถียรของแรงดันอย่างเข้มงวด

ก๊าซที่ใช้ได้: ก๊าซพิษหรือก๊าซกัดกร่อน เช่น ไฮโดรเจนซัลไฟด์ (H₂S) และแอมโมเนีย (NH₃) รวมทั้งก๊าซติดไฟได้ เช่น ไฮโดรเจน (H₂)

3. แผงตัดอัตโนมัติด้วยวาล์วโซลินอยด์

แผงนี้ติดตั้งวาล์วปิดแบบโซลินอยด์ ซึ่งตอบสนองต่อสัญญาณจากระบบควบคุมเพื่อการเปิด-ปิดจากระยะไกล และการตัดก๊าซฉุกเฉิน มันเชื่อมต่อกับระบบแจ้งเหตุเพลิงไหม้และระบบตรวจจับก๊าซ เพื่อตัดการจ่ายก๊าซโดยอัตโนมัติเมื่อเกิดสภาวะผิดปกติ

การใช้งาน: ตู้เก็บก๊าซพิเศษที่ทำงานอัตโนมัติเต็มรูปแบบ ระบบที่จ่ายก๊าซอันตรายซึ่งต้องการการตัดก๊าซฉุกเฉิน และระบบที่สลับแหล่งจ่ายก๊าซอัตโนมัติแบบสองแหล่ง

ก๊าซที่ใช้งานได้: ก๊าซที่ติดไฟได้เอง หรือมีพิษสูงมาก หรือกัดกร่อนรุนแรง เช่น ไซเลน (SiH₄), ฟอสฟีน (PH₃) และคลอรีน (Cl₂)

4. แผงสลับแหล่งจ่ายก๊าซอัตโนมัติแบบสองแหล่ง

แผงนี้มีข้อต่อสำหรับแหล่งจ่ายก๊าซหลักและสำรอง โดยจะเปลี่ยนไปใช้แหล่งสำรองโดยอัตโนมัติเมื่อแหล่งหลักหมด โดยไม่มีการหยุดชะงักหรือการเปลี่ยนแปลงของความดันแต่อย่างใด มันประกอบด้วยเร็กกูเลเตอร์สองขั้นตอน วาล์วตรวจสอบ และโมดูลตรวจสอบความดัน

การใช้งาน: สายการผลิตแบบต่อเนื่องและสถานีกระบวนการที่สำคัญซึ่งไม่สามารถหยุดการจ่ายก๊าซได้ เช่น การสะสมฟิล์มเซมิคอนดักเตอร์และการกัดกร่อนด้วยพลาสมา

ก๊าซที่ใช้ได้: SiH₄, NH₃, CF₄ และก๊าซกระบวนการอื่นๆ ที่ต้องใช้อย่างต่อเนื่อง

5. แผงควบคุมการผสมก๊าซและสัดส่วนการไหล

แผงนี้ผสานรวมตัวควบคุมอัตราการไหลแบบมวล (MFCs), วาล์วแบบสัดส่วน และห้องผสม เข้าด้วยกัน เพื่อควบคุมสัดส่วนการไหลของก๊าซสองชนิดขึ้นไปอย่างแม่นยำ โดยมีความแม่นยำในการผสมอยู่ที่ ±1% ของช่วงการวัดสูงสุด (FS)

การใช้งาน: การสะสมฟิล์มแบบเคมี (CVD), การกัดกร่อนด้วยพลาสมา, การเชื่อมแบบใช้ก๊าซป้องกัน และการเตรียมก๊าซมาตรฐานในห้องปฏิบัติการ

ก๊าซที่ใช้ได้: H₂/N₂, Ar/O₂ และส่วนผสมก๊าซแบบสองหรือหลายองค์ประกอบอื่นๆ

6. แผงก๊าซพิเศษความบริสุทธิ์สูง (เชื่อมต่อด้วยข้อต่อ VCR)

สร้างขึ้นจากสแตนเลสเกรด 316L ผิวด้านในผ่านกระบวนการอิเล็กโตรโพลิช (EP) ความหยาบของผิว (Ra) ไม่เกิน 0.25 ไมครอน แผงนี้ใช้ข้อต่อโลหะแบบ VCR ที่ปิดผนึกด้วยพื้นผิวเพื่อกันการรั่วซึมและการปนเปื้อนอย่างสมบูรณ์ พร้อมติดตั้งวาล์วควบคุมความดันและตัวกรองแบบอนุภาคในแนวเดียวกันสำหรับความบริสุทธิ์ระดับ ppb แต่ละหน่วยผ่านการทดสอบการรั่วซึมด้วยฮีเลียมและการตรวจสอบอนุภาคก่อนจัดส่ง

การใช้งาน: การผลิตเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์ การบรรจุภัณฑ์ขั้นสูง เซลล์พลังงานแสงอาทิตย์ และระบบจ่ายก๊าซในห้องสะอาด

ก๊าซที่ใช้ได้: อาร์กอน (Ar) เฮลียม (He) ไนโตรเจน (N₂) ไซแลน (SiH₄) ไทรคลอโรไซแลน (SiHCl₃) และก๊าซอื่นๆ ที่ใช้เป็นก๊าซพาหรือก๊าซปฏิกิริยา ทั้งหมดต้องมีความบริสุทธิ์สูง