Panouri speciale de control al gazelor: Nucleul reglării presiunii și al controlului siguranței

1. Panou de comandă manual de bază

Acest panou integrează supape sferice manuale, un reglator de presiune și un manometru. Operatorii reglează manual presiunea de ieșire și controlează fluxul de gaz. Structura sa simplă îl face ușor de operat și de întreținut. Sunt disponibile circuite de reglare cu o singură treaptă sau cu două trepte, în funcție de cerințele diferite privind precizia presiunii.

Aplicații: Linii de laborator, linii de producție mici și medii, precum și stații de comutare a gazelor de rezervă cu personal prezent pe loc.

Gaze adecvate: Azot (N₂), argon (Ar), heliu (He), dioxid de carbon (CO₂) și alte gaze inerte sau necorozive.

2. Panou de monitorizare la distanță a presiunii

Construit pe baza panoului de bază, acest tip adaugă traductoare de presiune care transformă semnalele de presiune de la intrare/ieșire în semnale electrice standard de 4–20 mA pentru monitorizarea la distanță într-un sistem central de control. Manometrele locale și supapele manuale sunt păstrate pentru operarea pe loc. Suportă alarme în timp real și înregistrarea datelor.

Aplicații: Stații de gaze neîntreținute, camere pentru gaze speciale monitorizate la distanță, linii de producție continue cu cerințe stricte privind stabilitatea presiunii.

Gaze adecvate: Gaze toxice sau corozive, cum ar fi sulfura de hidrogen (H₂S) și amoniacul (NH₃), precum și gaze inflamabile, cum ar fi hidrogenul (H₂).

3. Panou cu supapă electromagnetică de închidere automată

Acest panou este echipat cu supape electromagnetice de închidere care răspund la semnalele sistemului de comandă pentru operare la distanță (deschidere/închidere) și pentru întreruperea de urgență a alimentării cu gaz. Se integrează cu sistemele de alarmă la incendiu și de detectare a gazelor pentru închiderea automată a alimentării cu gaz în condiții anormale.

Aplicații: Cabiți specializate pentru gaze complet automate, sisteme de distribuție a gazelor periculoase care necesită închidere de urgență și sisteme automate de comutare între două surse.

Gaze adecvate: Gaze piroforice, extrem de toxice sau puternic corozive, cum ar fi silanul (SiH₄), fosfina (PH₃) și clorul (Cl₂).

4. Panou de comutare automată între două surse

Echipat cu racorduri pentru sursa principală și pentru sursa de rezervă de gaz, acest panou comută automat la sursa de rezervă atunci când sursa principală se epuizează — fără nicio întrerupere sau fluctuație de presiune. Include reglatoare în două trepte, supape de sens unic și module de monitorizare a presiunii.

Aplicații: Linii de producție continue și stații critice de proces în care aprovizionarea cu gaz nu poate fi întreruptă, cum ar fi depunerea și gravarea semiconductorilor.

Gaze adecvate: SiH₄, NH₃, CF₄ și alte gaze de proces necesare în mod continuu.

5. Panou pentru amestecarea gazelor și controlul raportului de amestec

Acest panou, care integrează reglatoare de debit masic (MFC), supape proporționale și o cameră de amestec, controlează cu precizie raportul de debit al a două sau mai multe gaze, obținând o precizie de amestecare de ±1% FS.

Aplicații: Depunere chimică din fază de vapori (CVD), gravare cu plasmă, sudare protejată cu gaz și pregătirea în laborator a gazelor standard.

Gaze adecvate: H₂/N₂, Ar/O₂ și alte amestecuri binare sau cu mai multe componente.

6. Panou pentru gaze speciale de înaltă puritate (conexiune VCR)

Construit din oțel inoxidabil 316L cu suprafețe interioare electropolizate (EP) (Ra ≤0,25 μm), acest panou utilizează racorduri metalice de etanșare pe față VCR în întregime pentru a elimina scurgerile și contaminarea. Echipat cu reglatoare de înaltă puritate și filtre în linie, îndeplinește cerințele de puritate la nivelul ppb. Fiecare unitate este supusă testului de scurgere cu heliu și verificării particulelor înainte de expediere.

Aplicații: Producția de wafere semiconductoare, ambalare avansată, celule fotovoltaice și livrare de gaze în camere curate.

Gaze adecvate: Argon (Ar), heliu (He), azot (N₂), silan (SiH₄), triclorosilan (SiHCl₃) și alte gaze purtătoare sau reactive de înaltă puritate.