特殊ガス制御パネル：圧力制御と安全制御の中核

1．基本手動制御パネル

このパネルには、手動ボールバルブ、圧力調整器、圧力計が統合されています。操作者は出口圧力やガス流量を手動で調整します。構造がシンプルなため、操作・保守が容易です。圧力精度の要件に応じて、単段式または二段式の調整回路を選択できます。

用途：実験室向けパイプライン、小～中規模の生産ライン、および常駐スタッフがいるバックアップ用ガス切替ステーション。

対応ガス：窒素（N₂）、アルゴン（Ar）、ヘリウム（He）、二酸化炭素（CO₂）などの不活性ガスや非腐食性ガス。

2．遠隔圧力監視パネル

基本パネルをベースに、入口／出口の圧力信号を標準4～20mAの電気信号に変換する圧力トランスミッターを追加したタイプです。これにより、中央制御システムでの遠隔監視が可能になります。現場での操作のため、ローカル圧力計および手動バルブはそのまま装備されています。リアルタイムのアラーム機能およびデータ記録機能に対応しています。

用途：無人ガス供給ステーション、遠隔監視対応の特殊ガス室、圧力安定性が厳しく要求される連続生産ライン。

対応ガス：硫化水素（H₂S）、アンモニア（NH₃）などの有毒・腐食性ガス、および水素（H₂）などの可燃性ガス。

3．ソレノイドバルブ自動遮断パネル

このパネルには、制御システムからの信号に応答して遠隔で開閉操作および緊急時ガス遮断を行うソレノイド式遮断バルブが装備されています。火災報知器およびガス検知装置と連携し、異常状況時に自動的にガス供給を遮断します。

用途：完全自動化された特殊ガスキャビネット、緊急遮断機能を要する危険性のあるガス供給システム、および二重供給源による自動切替システム。

対応ガス：自己発火性、高毒性、または強腐食性のガス（例：シラン（SiH₄）、ホスフィン（PH₃）、塩素（Cl₂））など。

4．二重供給源自動切替パネル

主供給源および予備供給源の接続に対応しており、主供給源のガスが尽きた際に、流量や圧力の変動を生じさせることなく自動的に予備供給源へ切り替えます。二段式レギュレーター、チェックバルブ、圧力監視モジュールを内蔵しています。

用途：半導体の成膜・エッチングなど、ガス供給を中断できない連続生産ラインおよび重要プロセスステーション。

対応ガス：SiH₄、NH₃、CF₄など、連続的に必要とされるプロセスガス。

5．ガス混合・流量比制御パネル

質量流量制御器（MFC）、比例バルブ、混合 chamber を一体化したこのパネルは、2種類以上のガスの流量比を高精度に制御し、混合精度±1％FSを実現します。

用途：CVD、プラズマエッチング、ガスシールド溶接、および実験室用標準ガスの調製。

対応ガス：H₂／N₂、Ar／O₂など、2成分または多成分の混合ガス。

6．高純度特殊ガスパネル（VCR接続）

内面を電解研磨（EP）処理（表面粗さRa ≤0.25μm）した316Lステンレス鋼で構成され、VCRメタルフェイスシール継手を全配管に採用することで、漏れや汚染を完全に防止します。高純度レギュレータおよびインラインフィルタを装備し、ppbレベルの純度要件を満たします。出荷前には、各装置に対してヘリウムリーク試験および粒子検査を実施しています。

用途：半導体ウエハー製造、先端パッケージング、太陽電池セル、クリーンルーム向けガス供給システム

対応ガス：高純度アルゴン（Ar）、ヘリウム（He）、窒素（N₂）、シラン（SiH₄）、トリクロロシラン（SiHCl₃）など、キャリアガスおよび反応性ガス