특수 가스 제어 패널: 압력 조절 및 안전 제어의 핵심

1. 기본 수동 제어 패널

이 패널은 수동 볼 밸브, 압력 조절기 및 압력 게이지를 통합한다. 운영자는 출구 압력과 가스 유량을 수동으로 조정한다. 단순한 구조로 인해 조작과 유지보수가 용이하다. 압력 정확도 요구 사항에 따라 단일 또는 이중 단계 조절 회로를 선택할 수 있다.

적용 분야: 실험실 파이프라인, 소규모에서 중규모 생산 라인, 현장 인력이 배치된 예비 가스 전환 스테이션.

사용 가능한 가스: 질소(N₂), 아르곤(Ar), 헬륨(He), 이산화탄소(CO₂) 및 기타 불활성 또는 비부식성 가스.

2. 원격 압력 모니터링 패널

기본 패널을 기반으로 하여, 입구/출구 압력 신호를 표준 4–20mA 전기 신호로 변환하는 압력 송신기를 추가한 유형이다. 이를 통해 중앙 제어 시스템에서 원격 모니터링이 가능하다. 현장 조작을 위해 로컬 게이지와 수동 밸브는 그대로 유지된다. 실시간 경보 및 데이터 로깅 기능을 지원한다.

적용 분야: 무인 가스 스테이션, 원격 모니터링이 필요한 특수 가스 실, 압력 안정성이 엄격히 요구되는 연속 생산 라인.

사용 가능한 가스: 황화수소(H₂S), 암모니아(NH₃) 등 독성 또는 부식성 가스, 그리고 수소(H₂)와 같은 가연성 가스.

3. 솔레노이드 밸브 자동 차단 패널

이 패널은 원격 개폐 작동 및 비상 가스 차단을 위해 제어 시스템 신호에 반응하는 솔레노이드 차단 밸브를 장착하고 있다. 화재 경보기 및 가스 감지 시스템과 연동되어 이상 상황 시 자동으로 가스 공급을 차단한다.

적용 분야: 완전 자동화 특수 가스 캐비닛, 비상 차단 기능이 요구되는 유해 가스 공급 시스템, 이중 공급원 자동 전환 시스템.

적합 가스: 실란(SiH₄), 인화수소(PH₃), 염소(Cl₂) 등 발화성, 고독성 또는 강한 부식성을 지닌 가스.

4. 이중 공급원 자동 전환 패널

주 공급원과 보조 공급원 연결을 모두 지원하며, 주 공급원이 소진되면 중단 없이 압력 변동 없이 자동으로 보조 공급원으로 전환한다. 이중 단계 조정기, 체크 밸브, 압력 모니터링 모듈을 포함한다.

적용 분야: 반도체 증착 및 에칭과 같이 가스 공급이 중단될 수 없는 연속 생산 라인 및 핵심 공정 구역.

사용 가능한 가스: SiH₄, NH₃, CF₄ 및 기타 지속적으로 필요한 공정 가스.

5. 가스 혼합 및 비율 제어 패널

질량 유량 조절기(MFC), 비례 밸브, 혼합 챔버를 통합한 이 패널은 두 가지 이상의 가스 유량 비율을 정밀하게 제어하여 ±1% FS의 혼합 정확도를 달성한다.

적용 분야: 화학 기상 증착(CVD), 플라즈마 에칭, 가스 차폐 용접, 실험실 표준 가스 제조.

사용 가능한 가스: H₂/N₂, Ar/O₂ 및 기타 이원 또는 다성분 가스 혼합물.

6. 고순도 특수 가스 패널(VCR 연결)

316L 스테인리스강으로 제작되었으며, 내부 표면은 전해 연마(EP) 처리되어 표면 거칠기(Ra)가 0.25μm 이하이다. 이 패널은 누출 및 오염을 방지하기 위해 전 구간에 VCR 금속 면밀봉 피팅을 사용한다. 고순도 레귤레이터 및 인라인 필터가 장착되어 ppb 수준의 순도 요구사항을 충족한다. 각 장치는 출하 전 헬륨 누출 검사 및 입자 검사를 완료한다.

적용 분야: 반도체 웨이퍼 제조, 첨단 패키징, 태양전지, 그리고 클린룸 가스 공급.

적합한 가스: 고순도 Ar, He, N₂, 실란(SiH₄), 트라이클로로실란(SiHCl₃) 및 기타 캐리어 가스 또는 반응성 가스.