Alle categorieën
Nieuws & Evenementen

Startpagina/Nieuws & Evenement

Wofly Technology — Kwaliteit en veiligheid van laboratoriumgasleidingen

Sep.17.2026

Overzicht

Laboratoriumgasleidingen zijn essentiële infrastructuur voor wetenschappelijk onderzoek, testen en precisieproductie. Gassen zoals H₂, O₂, N₂, Ar, He, NH₃ en SiH₄ moeten worden aangevoerd met stabiele druk, hoge zuiverheid en constante stroming om reproduceerbare experimentele resultaten en veilige apparatuurwerking te garanderen.

image1.jpg

1. Veiligheidsrisico’s en kwaliteitseisen

01 Gasclassificaties

Type Voorbeelden Belangrijkste gevaar
Inert N₂, Ar, He Verminderde zuurstofconcentratie bij hoge concentratie
Oxiderend O₂, perslucht Brandbevorderend; olievrije leidingen vereist
Brandbaar H₂ (LEL 4–75%), SiH₄ Explosiegevaar; speciale gaskasten vereist
Corrosief NH₃, Cl₂ Pijpleidingcorrosie; corrosiebestendige legeringen vereist
  • image2.jpg
  • image3.jpg

02 Kernrisico’s

Lekkage

● — Meest voorkomend bij kleppackingen, VCR-aansluitingen, lasnaden en flenzen. Ontstekbare gasaccumulatie kan explosiegrenzen bereiken; giftige gassen vormen directe risico’s voor personeel.

Zuiverheidsverontreiniging

● — Deeltjes, vocht en metaalionen van de binnenwand van pijpen verlagen de zuiverheid. Systemen met hoge zuiverheid vereisen een oppervlakteruwheid Ra ≤ 0,4 μm aan de binnenzijde.

Drukafwijkingen

● — Regelaarstoring of wisselen van gasbron veroorzaakt drukpieken of -schommelingen, wat de veiligheid van apparatuur en de stabiliteit van experimenten beïnvloedt.

Materiaalcorrosie

● — 316L-roestvrijstalen handgrepen verdragen NH₃ en alkalische gassen; legeringen van Hastelloy of Monel zijn vereist voor Cl₂ en sterke oxidatiemiddelen.

03 Kwaliteitsnormen

Materiaal

● 316L-elektropolijstbuizen (EP) voor hoogzuivere gassen; naadloze 304-buizen voor algemeen gebruik.

Verbinding

● Orbitale GTAW-lasverbindingen voor hoogzuivere systemen; VCR-metaal-op-oppervlak-aansluitingen met lekverlies ≤ 1×10⁻⁹ Pa·m³/s.

Testen

● Hydrostatische test (1,5× het ontwerpdruk) → Pneumatische test (1,15×) → Heliummassaspectrometer-lekdetectie.

Standaarden

● SEMI F20, GB 50177, GB 50029.

image4.jpg

2. Wofly Technology Solutions

01 Volledige engineeringdienst in één cyclus

Wofly Technology biedt end-to-end-diensten van ontwerp tot inbedrijfstelling

Ontwerp

● Aangepaste lay-out op basis van gassoort, stroomsnelheid, druk en eindpuntverdeling. Ontvlambare, oxiderende en corrosieve gassen worden via onafhankelijke of gescheiden leidingen geleid.

Materiaal inkoop

● 316L-EP-buizen, membraankleppen (geen lekkage) en drukregelaars die zijn geselecteerd op basis van de vereisten voor ingangsdruk en uitgangsstroomsnelheid.

Installatie

● Orbitaal snijden en geautomatiseerd orbitaal lassen met gekwalificeerde lasproceduregegevens (PQR). Argonspoeling binnen de buis tijdens het lassen voorkomt oxidatie.

Inbedrijfstelling

● Druktesten, lekkagedetectie, spoelen, zuiverheidsverificatie en levering van volledige documentatie.

image5.jpg

02 Belangrijkste apparatuur

Speciale gas-kasten (GC)

● Opslag van hogedrukcilinders met automatische ventilatie, lekkage-alarmen en explosiebestendige deuren.

Drukregelaars (WR1200-serie)

● Vermindert cilinderdruk (15–20 MPa) naar werkdruk (0,1–0,8 MPa); tweevoudig ontwerp met regelnauwkeurigheid van ±2 %; EP-binnenoppervlak.

Membraankleppen (MV4 / MVH4-serie)

● Metalen membraanafsluiter met nul lekkage en zonder pakkingsschacht. MV4 voor standaard hoogzuivere gassen; MVH4 voor hoge-temperatuur- of corrosieve media. Levensduur ≥ 100.000 open-/sluitcycli.

Gasvoorzieningspanelen (GSP)

● Integreert drukregelaars, manometers, membraankleppen en stromingsmeters in een modulair ontwerp voor gecentraliseerde druk-/stroombewaking en eenvoudig onderhoud.

image6.jpg

03 kerntechnologieën

Elektrogepolijste buizen

● 316L binnenvlak Ra ≤ 0,4 μm; chroomverrijkte passieve laag minimaliseert deeltjesadsorptie en ionenafgifte.

Orbitale geautomatiseerde lassen

● Programmeerbare stroom, draaisnelheid en draadaanvoer; volledige parametertraceerbaarheid per lasverbinding.

VCR metalen vlakdichting

● Lekrate ≤ 1×10⁻⁹ Pa·m³/s via plastische vervorming van de metalen pakking; geschikt voor ultra-hoogzuivere en vacuüm-systemen.

Ontluchten en passiveren

● Ontluchten met een hoge stroomsnelheid van hoogzuiver N₂ of Ar verwijdert deeltjes en vocht; zuurstofgevoelige systemen ondergaan vervolgens verdere passivering om een stabiele oxide-laag te vormen.

Vraag een gratis offerte aan

Onze vertegenwoordiger neemt binnenkort contact met u op.
E-mail
Telefoon
Naam
Bedrijfsnaam
Bericht
0/1000