Wofly Technology — Kwaliteit en veiligheid van laboratoriumgasleidingen
Overzicht
Laboratoriumgasleidingen zijn essentiële infrastructuur voor wetenschappelijk onderzoek, testen en precisieproductie. Gassen zoals H₂, O₂, N₂, Ar, He, NH₃ en SiH₄ moeten worden aangevoerd met stabiele druk, hoge zuiverheid en constante stroming om reproduceerbare experimentele resultaten en veilige apparatuurwerking te garanderen.

1. Veiligheidsrisico’s en kwaliteitseisen
01 Gasclassificaties
| Type | Voorbeelden | Belangrijkste gevaar |
| Inert | N₂, Ar, He | Verminderde zuurstofconcentratie bij hoge concentratie |
| Oxiderend | O₂, perslucht | Brandbevorderend; olievrije leidingen vereist |
| Brandbaar | H₂ (LEL 4–75%), SiH₄ | Explosiegevaar; speciale gaskasten vereist |
| Corrosief | NH₃, Cl₂ | Pijpleidingcorrosie; corrosiebestendige legeringen vereist |
02 Kernrisico’s
Lekkage
● — Meest voorkomend bij kleppackingen, VCR-aansluitingen, lasnaden en flenzen. Ontstekbare gasaccumulatie kan explosiegrenzen bereiken; giftige gassen vormen directe risico’s voor personeel.
Zuiverheidsverontreiniging
● — Deeltjes, vocht en metaalionen van de binnenwand van pijpen verlagen de zuiverheid. Systemen met hoge zuiverheid vereisen een oppervlakteruwheid Ra ≤ 0,4 μm aan de binnenzijde.
Drukafwijkingen
● — Regelaarstoring of wisselen van gasbron veroorzaakt drukpieken of -schommelingen, wat de veiligheid van apparatuur en de stabiliteit van experimenten beïnvloedt.
Materiaalcorrosie
● — 316L-roestvrijstalen handgrepen verdragen NH₃ en alkalische gassen; legeringen van Hastelloy of Monel zijn vereist voor Cl₂ en sterke oxidatiemiddelen.
03 Kwaliteitsnormen
Materiaal
● 316L-elektropolijstbuizen (EP) voor hoogzuivere gassen; naadloze 304-buizen voor algemeen gebruik.
Verbinding
● Orbitale GTAW-lasverbindingen voor hoogzuivere systemen; VCR-metaal-op-oppervlak-aansluitingen met lekverlies ≤ 1×10⁻⁹ Pa·m³/s.
Testen
● Hydrostatische test (1,5× het ontwerpdruk) → Pneumatische test (1,15×) → Heliummassaspectrometer-lekdetectie.
Standaarden
● SEMI F20, GB 50177, GB 50029.

2. Wofly Technology Solutions
01 Volledige engineeringdienst in één cyclus
Wofly Technology biedt end-to-end-diensten van ontwerp tot inbedrijfstelling
Ontwerp
● Aangepaste lay-out op basis van gassoort, stroomsnelheid, druk en eindpuntverdeling. Ontvlambare, oxiderende en corrosieve gassen worden via onafhankelijke of gescheiden leidingen geleid.
Materiaal inkoop
● 316L-EP-buizen, membraankleppen (geen lekkage) en drukregelaars die zijn geselecteerd op basis van de vereisten voor ingangsdruk en uitgangsstroomsnelheid.
Installatie
● Orbitaal snijden en geautomatiseerd orbitaal lassen met gekwalificeerde lasproceduregegevens (PQR). Argonspoeling binnen de buis tijdens het lassen voorkomt oxidatie.
Inbedrijfstelling
● Druktesten, lekkagedetectie, spoelen, zuiverheidsverificatie en levering van volledige documentatie.

02 Belangrijkste apparatuur
Speciale gas-kasten (GC)
● Opslag van hogedrukcilinders met automatische ventilatie, lekkage-alarmen en explosiebestendige deuren.
Drukregelaars (WR1200-serie)
● Vermindert cilinderdruk (15–20 MPa) naar werkdruk (0,1–0,8 MPa); tweevoudig ontwerp met regelnauwkeurigheid van ±2 %; EP-binnenoppervlak.
Membraankleppen (MV4 / MVH4-serie)
● Metalen membraanafsluiter met nul lekkage en zonder pakkingsschacht. MV4 voor standaard hoogzuivere gassen; MVH4 voor hoge-temperatuur- of corrosieve media. Levensduur ≥ 100.000 open-/sluitcycli.
Gasvoorzieningspanelen (GSP)
● Integreert drukregelaars, manometers, membraankleppen en stromingsmeters in een modulair ontwerp voor gecentraliseerde druk-/stroombewaking en eenvoudig onderhoud.

03 kerntechnologieën
Elektrogepolijste buizen
● 316L binnenvlak Ra ≤ 0,4 μm; chroomverrijkte passieve laag minimaliseert deeltjesadsorptie en ionenafgifte.
Orbitale geautomatiseerde lassen
● Programmeerbare stroom, draaisnelheid en draadaanvoer; volledige parametertraceerbaarheid per lasverbinding.
VCR metalen vlakdichting
● Lekrate ≤ 1×10⁻⁹ Pa·m³/s via plastische vervorming van de metalen pakking; geschikt voor ultra-hoogzuivere en vacuüm-systemen.
Ontluchten en passiveren
● Ontluchten met een hoge stroomsnelheid van hoogzuiver N₂ of Ar verwijdert deeltjes en vocht; zuurstofgevoelige systemen ondergaan vervolgens verdere passivering om een stabiele oxide-laag te vormen.
EN
AR
HR
CS
NL
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
VI
MT
TH
TR
AF
MS
AZ


