R13 ステンレス鋼 高圧窒素/アルゴン/アンモニア/ヘリウム 圧力低減弁

WR13高流量減圧弁は、ハステロイ製波形ダイアフラム、大口径・高Cv値設計、内蔵フィルター、低漏れ・耐食性材料を採用しており、オプションで酸素対応仕様も選べます。この弁は、圧力制御の遅れ、高流量時の圧力低下、腐食性ガスによる機器損傷、配管内の不純物によるバルブの固着、高純度酸素に伴う安全リスク、過剰なガス漏れ、高圧ガス源との互換性不良など、プロセス効率・コスト・安全性の課題をワンストップで解決します。

具体的には、以下の7つの課題に対応します：

1．流量不安定や過大な圧力降下の解消

Cv値1.8を実現する大口径設計により、高流量供給時でも圧力が低下しません。半導体製造や水素エネルギーなど、多量のガスを消費するプロセスにおいても、複数の装置が同時にガスを使用しても圧力が安定し、高い信頼性を発揮します。

2．圧力制御精度の低さおよび応答遅れという課題の解決

高感度な波形ハステロイ製ダイアフラムを採用。ノブの微調整により精密な圧力制御を実現し、狭い圧力範囲内でも直線的で滑らかな調整が可能です。

3．腐食性・毒性ガスによるバルブ本体の腐食および頻繁な交換という課題の解決

ハステロイ製ダイアフラム＋PCTFE製シートを採用。さまざまな腐食性・高毒性特殊ガスに耐え、バルブ本体の寿命を大幅に延長し、運用・保守における交換コストを削減します。

4．配管内の不純物によるバルブ詰まり、およびバルブ心金の内部漏れによる過圧という課題の解決

標準装備の入口部に20μmメッシュのSUS316L製フィルタースクリーンを設置。配管内に混入した金属片や溶接スラグを捕捉し、シート詰まりや遮断不良による下流側の高精度機器への過圧損傷を防止します。

5. 高純度酸素用途における自然発火および媒体汚染の問題を解決

油分を含まない清浄な酸素用の専用モデルをサポート。油による自然発火リスクを排除し、高純度ガスを汚染する不純物の溶出も防止。研究室や酸化プロセスに適しています。

6. ガス漏れ、安全性、消耗品の無駄といった課題に対応

気泡レベルの内部シールと外部ヘリウムリーク検出（≤1×10⁻⁹ mbar・L/s）により、高価な希ガスや有毒ガスの漏れを防止。半導体産業が求める厳しいリーク検出基準を満たします。

7. 高圧ガス供給源および配管接続の互換性に関する課題を解決

最大入口圧力500 psigに耐え、3/4 NPTの大口径入口・出口ポートに加え、別途1/4 NPTの圧力計用ポートを備えています。追加のアダプターを必要とせず、配管システム内の潜在的な漏れポイントを削減します。